| 氩气ICP中“电荷迁移”激发机理的研究 |
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| 引用本文： | 唐咏秋. 氩气ICP中“电荷迁移”激发机理的研究[J]. 岩矿测试, 1990, (4): 252-256. |
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| 作者姓名： | 唐咏秋 |
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| 作者单位： | 华东化工学院分析测试中心 上海200237 |
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| 摘 要： | 在氩气ICP中,氩离子的密度与电子密度相当,比亚稳态氩原子的密度高1000倍左右.而且Ar~ 的有效碰撞截面和具有的能量(～16.5eV)均高于电子(～0.8eV)和Ar~m(～12.5eV)。因而以“电荷迁移”形式发生的Ar~ 对元素原子的激发应该是一个重要过程:Ar~ X→X~( *) Ar △E测量钙、镁的具有不同激发能的原子和离子谱线强度之比I_i/I_a,并与(I_i/I_a)_(LTE)相比较,发现唯有Mg(Ⅱ)279.81nm/Mg(Ⅰ)285.21nm的实验值远高于LTE值。另外,由Mg
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| 关 键 词： | 氩气 ICP 电荷迁移 激发 |
A Study on the Mechanism of Charge Transfer in Argon ICP |
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| A Study on the Mechanism of Charge Transfer in Argon ICP[J]. Rock and Mineral Analysis, 1990, (4): 252-256. |
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| Authors: | Tang Yongqiu |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | charge transfer argon ICP |
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