纵横比成像的绝对二次曲线的新约束及其应用 |
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引用本文: | 盛庆红.纵横比成像的绝对二次曲线的新约束及其应用[J].测绘科技情报,2007(3). |
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作者姓名: | 盛庆红 |
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摘 要: | 相机自检校是计算机视觉一个非常重要的任务。如果已知纵横比人们还需要零倾斜假设来获得相机定时的绝对二次曲线图的约束。然而,相机的倾斜通常是非零的和不知道的。介绍了一种新的绝对二次曲线图的二次约束,它无需已知纵横比。可用于单视场定标和重建。另外,实验证明新约束比常用的零倾斜假设约束的检校精度更好。
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关 键 词: | 绝对二次曲线 相机内方位元素 单视场相机检校 计算机视觉 |
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