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| 探针样品真空涂膜工艺的改进 | |
| 引用本文： | 张秉彝.探针样品真空涂膜工艺的改进[J].地质科技情报,1984(4). |
| 作者姓名： | 张秉彝 |
| 摘 要： | 用电子探针和扫描电镜对非导电性地质样品进行工作时,必须预先涂一层极薄的导电性膜.目前,国内各实验室基本上都使用尖端蒸发方式,即在高真空条件下令大电流通过碳棒的尖端,使其加热到3000°K以上.这种方式虽然比较易于获得蒸发碳所需的高温,但由于碳蒸气发射面积小,不能同时完成多个样品的制备;并且在加热过程中发射的碳粒会附着在样品上,产生了对X-射线的附加吸收和散射,因而影响探针分析精度.为了消除上述缺点,国外一些先进的实验室已改用细碳棒为蒸发源(直径2mm).这样,碳分子发射面积可增大几十倍,涂层均匀性及涂膜效率显著提高.在筹建研究生 |
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