| 硬X射线相位光栅的设计与研制 |
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| 引用本文： | 刘鑫,雷耀虎,赵志刚,郭金川,牛憨笨.硬X射线相位光栅的设计与研制[J].海洋学报,2010,32(10):6927-6932. |
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| 作者姓名： | 刘鑫 雷耀虎 赵志刚 郭金川 牛憨笨 |
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| 作者单位： | 深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳 518060;深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳 518060;深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳 518060;深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳 518060;深圳大学光电工程学院,光电子器件与系统教育部重点实验室,深圳 518060 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目(批准号:60232090)、广东省高等学校创新团队项目(批准号:06CXTD009)和深圳市科技局(批准号:2008340,JC200903130326A)资助的课题. |
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| 摘 要： | 针对在普通实验室和医院实现40—100 keV X射线相衬成像的需求,考虑到成像系统参数、X射线源空间相干特性及光栅衍射效率,设计出硅基相位光栅结构参数.利用我们已发展的光助电化学刻蚀技术研制出直径为5英寸的相位光栅,其空间周期为5.6 μm,线宽为2.8 μm,深度为40—70 μm.在理论分析的基础上,通过提高硅片两端有效工作电压和修正Lehmann电流密度公式,解决了实际刻蚀过程中出现的钻蚀问题.由实验结果可知,本方案对制作大面积高精度相位光栅十分有效.
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| 关 键 词： | X射线 相衬成像 相位光栅 硅刻蚀 光助电化学刻蚀 |
| 收稿时间： | 1/5/2010 12:00:00 AM |
Design and fabrication of hard x-ray phase grating |
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| Liu Xin,Lei Yao-Hu,Zhao Zhi-Gang,Guo Jin-Chuan and Niu Han-Ben.Design and fabrication of hard x-ray phase grating[J].Acta Oceanologica Sinica (in Chinese),2010,32(10):6927-6932. |
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| Authors: | Liu Xin Lei Yao-Hu Zhao Zhi-Gang Guo Jin-Chuan and Niu Han-Ben |
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| Institution: | College of Optoelectronic Engineering, Shenzhen University, Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education, Shenzhen 518060, China;College of Optoelectronic Engineering, Shenzhen University, Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education, Shenzhen 518060, China;College of Optoelectronic Engineering, Shenzhen University, Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education, Shenzhen 518060, China;College of Optoelectronic Engineering, Shenzhen University, Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education, Shenzhen 518060, China;College of Optoelectronic Engineering, Shenzhen University, Key Laboratory of Optoelectronic Devices and Systems of Ministry of Education, Shenzhen 518060, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | x-ray phase contrast imaging phase grating silicon etching photon-aided electrochemical etching |
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