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带动态反应池的电感耦合等离子体质谱仪分析半导体级四甲基氢氧化铵 总被引:2,自引:0,他引:2
珀金埃尔默仪器(上海)有限公司地址:上海张江高科技园区李冰路67弄4号楼邮编:201203电话:021-38769510传真:021-50791310 E-mail:ji-jun.yao@perkinelmer.com网址:http:∥www.perkinelmer.com.cn四甲基氢氧化铵(TMAH)是一种澄清、水溶性好、碱性强的有机溶剂,作为显影液广泛使用在半导体及液晶显示器(LCD)产业的光刻制程中。由于TMAH的用途广泛,对于其中杂质含量的分析至关重要。在SEMI C46-03061标准[1]中明确给出了25%(质量分数,下同)的TMAH中杂质含量的限值,即每个元素含量在10 ng/ 相似文献
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超纯水(Ultrapure Water,UPW)在痕量元素分析中通常被用来稀释样品、清洗仪器和实验器皿等。对于超纯水中痕量元素的准确分析则取决于仪器是否有足够低的检出限和较高的分析通量。电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)可多元素同时检测,分析速度快,特别是对测超痕量级元素(ng/L或g/L)具备优越的检测性能,因而成为化学品质量控制中一种必不可少的分析手段[1]。在常规等离子体条件下,氩与样品基体之间会形成大量的多元素干扰,例如38Ar1H对39K的干扰,40Ar对40Ca的干扰,40Ar16O对56Fe的干扰等。冷等离子体技术已经被证明对基于氩基体的干扰是有效的。相对于常规等离子体,冷等 相似文献
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动态反应池电感耦合等离子体质谱仪分析半导体级盐酸中杂质 总被引:3,自引:0,他引:3
盐酸广泛应用于半导体工业。目前,半导体器件设计的线宽更小,因此更易受到低水平杂质的影响。在一些关键工艺中,为达到其所需性能和质量,必须连续监测HCl中的杂质水平。半导体标准SEMI C27-0708中规定了不同等级HCl中含量为10-6~0.1 mg/L的各金属最高污染限量。电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)具有快速、同时测定各类工艺中化学品的超痕量(ng/L)组分能力,使其成为质量控制的不可缺少的分析工具。需要指出的是,在传统的等离子体条件下,氩离子与基质相结合将产生多原子干扰。常见的HCl中观测到的Cl基体干扰,有37Cl1H2对39K的干扰、35Cl16O对51V的干扰、35Cl16O 相似文献
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