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用电子探针和扫描电镜对非导电性地质样品进行工作时,必须预先涂一层极薄的导电性膜.目前,国内各实验室基本上都使用尖端蒸发方式,即在高真空条件下令大电流通过碳棒的尖端,使其加热到3000°K以上.这种方式虽然比较易于获得蒸发碳所需的高温,但由于碳蒸气发射面积小,不能同时完成多个样品的制备;并且在加热过程中发射的碳粒会附着在样品上,产生了对X-射线的附加吸收和散射,因而影响探针分析精度.为了消除上述缺点,国外一些先进的实验室已改用细碳棒为蒸发源(直径2mm).这样,碳分子发射面积可增大几十倍,涂层均匀性及涂膜效率显著提高.在筹建研究生 相似文献
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文中简述了电子探针试样蒸镀碳膜及膜厚控制的意义,介绍讨论了几种膜厚监测方法,并在其中的一种方法——监测模拟样品表面电阻变化的基础上,给出了一个膜厚自动控制装置的设计方案,结合DV502蒸镀仪进一步介绍了该装置的电路原理、实际制作及其蒸镀技术. 相似文献
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