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在厚靶分析中外标法的表面形状校正
引用本文:
梁宝鎏,孙大泽.在厚靶分析中外标法的表面形状校正[J].岩矿测试,2003,22(1):10-14.
作者姓名:
梁宝鎏
孙大泽
作者单位:
1. 香港城市大学,香港
2. 香港城市大学,香港天津市技术物理研究所,天津,300192
基金项目:
香港城市大学Strategic研究基金(7000867)
摘 要:
在厚靶的非破坏性x射线荧光分析中,以钇做外标元素,研究了不同样品形状及与源、探测器距离不同时,引起接收到元素荧光强度差异的校正方法。给出了对不同形状瓷片中元素特征峰计数校正前后的比较。探讨了此种方法带入的测量误差。
关 键 词:
厚靶分析
外标法
荧光强度
X射线荧光分析
钇
外标元素
探测器
文章编号:
0254-5357(2003)01-0010-05
修稿时间:
2002年9月25日
Surface Shape Correction in Thick Sample Measurement Using an Outer Mark Membrane
Abstract:
Keywords:
X-ray fluorescence
thick target
outer mark membrane
characteristic peak
correction coefficient
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