寡照对设施黄瓜光合特性的影响研究

为研究寡照对设施黄瓜苗期及花果期叶片光合速率的影响，于2012年2—4月份在章丘伟丽种苗基地设计不同程度寡照处理试验。结果表明：随着寡照天数的增加，黄瓜叶片PRD-V，LsD-V，TrD-V和CD-V均呈上升趋势，差值越大，寡照对黄瓜叶片光合速率、气孔限制值、蒸腾速率和气孔导度的影响越大。寡照处理1～7d，黄瓜叶片PRD-V，TrD-V和CD-V迅速增大，寡照处理7d后，黄瓜叶片PRD-V，TrD-V和CD-V缓慢增大，并趋于稳定。寡照7d可视为设施黄瓜发生寡照胁迫的临界值，苗期黄瓜叶片光合特性受寡照影响大于花果期。