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| ZY—1型自动匀光印像机研制 | |
| 作者姓名： | 杨可 |
| 作者单位： | 国家测绘局测绘科学研究所 |
| 摘 要： | <正> 前言为了获取高质量影像和高几何精度的正片,以便适应高精度测量仪器(如解析测图仪、正射投影仪和影像数字化仪等)、地籍测量及遥感技术对复制图像质量不断提高的要求,我们研制了ZY—1型自动匀光印像机。该机的基本原理是对晒印的感光材料进行微分曝光,称为“匀光”。本系统采用阵列式面阵光源,由并联控制而且相互独立的硅光电池元件与集成化运算单元组成密度测量与反馈系统,以 |
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