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两种面向地貌晕渲的光照模型比较
引用本文:张威巍,游雄,宋国民.两种面向地貌晕渲的光照模型比较[J].测绘科学技术学报,2009,26(2).
作者姓名:张威巍  游雄  宋国民
作者单位:信息工程大学,测绘学院,河南,郑州,450052
摘    要:光照模型是影响数字地貌晕渲的一个关键因素.在参照传统晕渲着色规则的基础上,结合数字地貌晕渲的投影方式及视点、光源的设置方法,从理论上分析了Lambert漫反射模型、基于坡向光照模型的特征;分别利用规则物体和地形数据对这两种光照模型所产生的效果进行了实验和对比;结果表明漫反射模型更适合起伏较平缓地区的晕渲,基于坡向的光照模型更能突出山体的起伏特征.最后结合理论分析讨论了产生这种实验结果的原因并提出了3点改进意见.

关 键 词:数字地貌晕渲  Lambert漫反射模型  基于坡向的光照模型

Comparision of Two Relief Shading Oriented Illumination Models
ZHANG Wei-wei,YOU Xiong,SONG Guo-min.Comparision of Two Relief Shading Oriented Illumination Models[J].Journal of Zhengzhou Institute of Surveying and Mapping,2009,26(2).
Authors:ZHANG Wei-wei  YOU Xiong  SONG Guo-min
Abstract:
Keywords:
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