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黑钨精矿中二氧化硅的X射线荧光光谱分析
引用本文:钟道国,许春才,王子箴.黑钨精矿中二氧化硅的X射线荧光光谱分析[J].岩矿测试,1988(2):148-148.
作者姓名:钟道国  许春才  王子箴
作者单位:赣州有色冶金研究所 (钟道国,许春才),赣州有色冶金研究所(王子箴)
摘    要:本文采用粉末压片方法,以硼酸镶边垫底,将黑钨精矿粉末样品直接加压成型,用赛璐珞-丙酮溶液封固表面,然后上机测定。标准系列与样品的基体成份相近,以消除基体效应,分析二氧化硅的含量范围为0.1—10%,相对标准偏差约2%,分析精度能满足选矿流程要求。

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