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| 水杨基萤光酮-CTMAB荧光猝灭法测定痕量镓的研究 | |
| 引用本文： | 赵锦端,何应律,吴子全,王茀鹏,赵中一.水杨基萤光酮-CTMAB荧光猝灭法测定痕量镓的研究[J].岩矿测试,1988(2):88-90. |
| 作者姓名： | 赵锦端 何应律 吴子全 王茀鹏 赵中一 |
| 作者单位： | 武汉地质学院应用化学系 (赵锦端，何应律，吴子全，王茀鹏)，武汉地质学院应用化学系(赵中一) |
| 摘 要： | 近年来,采用水杨基萤光酮(SAF)与金属离子在表面活性剂存在下形成三元配合物,使试剂SAF荧光猝灭而测定金属离子的方法已有不少报道。但利用Ga—SAF—CTMAB形成三元配合物导致SAF荧光猝灭而测定Ga的方法尚未见报道。我们发现,SAF—CTlWAB体系在400nm处有最 |
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